Bu çalışmada, VOx ince filmler, farklı O2/Ar (%) oranlarda ve 20 - 80 nm kalınlık aralığında DC magnetron reaktif sıçratma tekniği kullanılarak Si/SiO2 altlık üzerine üretilmişlerdir. Üretilen VOx ince filmlerin TCR, ROS ...